流體拋光工藝是一種通過控制壓力和流量的方法，使得材料表面得到拋光和平整的過程。流體拋光工藝分為化學拋光和物理拋光兩種。

化學拋光是一種利用化學試劑來去除材料表面的微觀缺陷和細節(jié)的過程。化學拋光的價格通常取決于使用的化學試劑和拋光過程的復(fù)雜性。

物理拋光是一種通過機械方法來去除材料表面的微觀缺陷和細節(jié)的過程。物理拋光的價格通常比化學拋光便宜。

因此，流體拋光工藝的價格通常取決于所使用的化學試劑和拋光過程的復(fù)雜性。一些常用的流體拋光工藝包括：PVD（物理氣相沉積）、CVD（化學氣相沉積）、EB（電子束熔凝）等。